[发明专利]一种大位阻烷基-烷基砜类化合物及其合成方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010157412.1 申请日: 2020-03-09
公开(公告)号: CN111377838B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 姜雪峰;李亚萍;王明 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: C07C317/10 分类号: C07C317/10;C07C315/00;C07D317/46;C07C317/20;C07C317/04;C07C317/06;C07D209/86;C07D333/18;C07C317/18;C07D313/12;C07H15/04;C07H1/00;C07J9/00
代理公司: 上海德禾翰通律师事务所 31319 代理人: 陈艳娟
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于有机化合物合成及应用技术领域,公开了一种如式(4)所示的大位阻烷基‑烷基砜类化合物及其合成方法,以羧酸衍生的氧化还原酯、还原性二氧化硫源以及烷基亲电试剂为原料,三组分一锅法得到一系列大位阻的烷基‑烷基砜类化合物。本发明合成方法原料来源广泛、廉价易得;反应操作简单;官能团耐受性强;该反应中还原性二氧化硫源的使用避免了额外当量金属还原试剂的加入,经济实用,避免了对环境的废金属污染。本发明还公开了所述烷基‑烷基砜类化合物在制备药物、农药、有机光电材料等中的应用。本发明具有较强的实用价值和广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 大位阻 烷基 化合物 及其 合成 方法 应用
【主权项】:
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