[发明专利]一种小孔内壁薄膜沉积方法及装置有效
| 申请号： | 202010161540.3 | 申请日： | 2020-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN111235539B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 陈英;孙向明;于凯凯 | 申请（专利权）人： | 摩科斯新材料科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 南京乐羽知行专利代理事务所(普通合伙) 32326 | 代理人： | 缪友建 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种小孔内壁薄膜沉积方法及装置，属于薄膜沉积技术领域，沉积方法在于，将靶材倾斜设置在待溅射材料的上方，以使靶材离子以设定角度射向待溅射材料的小孔内壁上，所述靶材为圆柱形靶材，且靶材的直径为100‑200mm；在溅射过程中，同时控制待溅射材料匀速转动，以实现靶材离子在小孔内壁上的均匀沉积。本发明将靶材倾斜设置，一方面可以使用小直径靶材实现大面积的均匀沉积，提高了沉积效率的同时降低了靶材损耗，节约成本；另一方面，斜靶磁控溅射的沉积方法可以使靶材离子以一定角度射向待溅射材料，从而使靶材离子以一定角度射向小孔内壁，而非向直溅射一样沉积方向与小孔内壁平行，沉积的效率和结合强度更好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 小孔 内壁 薄膜 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】：
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