[发明专利]轮廓测量系统和轮廓测量方法有效
| 申请号： | 202010169023.0 | 申请日： | 2020-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN113124778B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 安国律多;赖岳益 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李世阳 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于轮廓测量的系统和方法。轮廓测量系统包含光投影机、成像装置、控制系统以及处理单元。光投影机包含光源、屏蔽罩以及光学系统。屏蔽罩的孔径允许来自光源的光的一部分穿过并且产生图案。光学系统包含配置成以不同投影距离投影图案的可变焦距透镜元件。成像装置配置成捕获以不同投影距离投影的图案的图像。控制系统配置成控制光投影机的投影距离和成像装置的焦距。处理单元配置成获得捕获到的图像中的对焦像素，产生屏蔽图像，基于捕获到的图像重建大景深的图案图像并且重建物体轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 轮廓 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
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