[发明专利]一种用于陶瓷基复合材料基体的硅酸铪环境障涂层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010171141.5 申请日: 2020-03-12
公开(公告)号: CN111233446A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 董淑娟;王轶辉;曹学强;蒋佳宁;邓龙辉;周鑫 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C04B35/16 分类号: C04B35/16;C04B35/622;C04B35/66
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 李炜
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种用于陶瓷基复合材料基体的硅酸铪环境障涂层及其制备方法。步骤如下:(1)将HfO2和SiO2混合,在球磨机上湿混球磨,经干燥、研磨、过筛,然后烧结进行高温固相反应;(2)待高温固相反应结束后,加入去离子水进行配浆,然后球磨,再经喷雾造粒制得HfSiO4粉体材料;(3)在陶瓷基复合材料基体表面先喷涂一层Si层作为打底层,然后将HfSiO4粉体材料喷涂在打底层表面作为面层,形成多层涂层;(4)对多层涂层进行热处理即得环境障涂层。本发明增加了热处理工艺,使得HfSiO4面层结晶度提高,涂层各层结合力更好,稳定性更高,环境障涂层的抗水氧能力得到了大幅度提高。本发明提供的制备方法简单易控,易于工业化生产和应用。
搜索关键词: 一种 用于 陶瓷 复合材料 基体 硅酸 环境 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学,未经武汉理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010171141.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top