[发明专利]一种大规模制备疏水型六方氮化硼纳米片的方法有效
| 申请号： | 202010174689.5 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111170289B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 卓东贤;瞿波;刘逸杰;陈少云;王睿 | 申请（专利权）人： | 泉州师范学院 |
| 主分类号： | C01B21/064 | 分类号： | C01B21/064 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 林文弘;蔡学俊 |
| 地址： | 362000 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种大规模制备疏水型六方氮化硼纳米片的方法，该方法采用化学剥离的手段，将高锰酸钾缓慢加入六方氮化硼和浓硫酸的混合液中，于0~95℃下反应0.5~120h后，获得混合液A；将过氧化氢缓慢滴加到混合液A中，经超声处理0.1~6h，而后离心取上层清液获得混合液B；将烷氧基硅烷置于水和混合液B的混合液中，于25~80℃下反应0.01~12h后过滤，再洗涤至中性，干燥后得到疏水型六方氮化硼纳米片。本发明具有工艺简单、原料成本低廉、产率较高、易于实现大批量生产等优点，且所得纳米片的结晶度好、在聚合物中的分散性良好等特性，在高性能复合材料等领域，具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大规模 制备 疏水 型六方 氮化 纳米 方法 | ||
【主权项】：
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