[发明专利]类超晶格锡硒-锑碲信息功能存储介质及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010175124.9 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN111276606A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 吴卫华;朱小芹;张勇 申请(专利权)人: 江苏理工学院
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 杭行
地址: 213011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种类超晶格锡硒‑锑碲信息功能存储介质及其制备方法,该存储介质的总厚度为40‑60 nm,结构通式为[SnSe2(a)/Sb2Te3(b)]n,其中a和b分别表示单个周期中SnSe2薄膜和Sb2Te3薄膜的厚度,且1a25 nm,1b25 nm,n为纳米复合多层结构相变薄膜的总周期数,且1n25。利用本发明公开的方法制备该类超晶格材料,在调节SnSe2薄膜和Sb2Te3薄膜的厚度比和周期数后,类超晶格SnSe2/Sb2Te3相变存储薄膜兼有热稳定性高和相变速度快的特征。
搜索关键词: 晶格 信息 功能 存储 介质 及其 制备 方法
【主权项】:
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