[发明专利]类超晶格锌锑-锑硒纳米相变薄膜及其制备和应用在审

专利信息
申请号: 202010175608.3 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN111276609A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 吴卫华;朱小芹;薛建忠 申请(专利权)人: 江苏理工学院
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 杭行
地址: 213011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种类超晶格结构ZnSb/SbSe相变存储薄膜及其制备和应用,该相变存储薄膜的总厚度为40‑60 nm,结构通式为[ZnSb(a)/SbSe(b)]n,其中,a和b分别表示单个周期中ZnSb薄膜和SbSe薄膜的厚度,且1a25 nm,1b25 nm,n为类超晶格结构相变薄膜的总周期数,且1n25。本发明通过磁控溅射的方法将结晶温度高的ZnSb和相变速度快的SbSe相变材料进行交替溅射构造出类超晶格结构,优势互补后获得的相变存储薄膜兼有热稳定性高和相变速度快的特性,其相变性能可以通过调整ZnSb和SbSe的厚度比、周期数等结构参数进行调控。
搜索关键词: 晶格 纳米 相变 薄膜 及其 制备 应用
【主权项】:
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