[发明专利]设置在岩体条件较好地基上的挡水坝在审
| 申请号： | 202010176546.8 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111236171A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 唐志丹;杨怀德;杨兴义;唐忠敏;张公平;王树平;冉从彦 | 申请（专利权）人： | 中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | E02B7/10 | 分类号： | E02B7/10;E02D27/40 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 林天福 |
| 地址： | 610072 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种挡水坝，尤其是公开了一种设置在岩体条件较好地基上的挡水坝，属于水工建筑物设计建造技术领域。提供一种经济性较好的设置在岩体条件较好地基上的挡水坝。所述的挡水坝，包括布置在岩体地基上的挡水坝本体，所述的挡水坝还包括减重降应力结构，所述的挡水坝本体在所述减重降应力结构的配合下布置到所述的岩体地基上。 | ||
| 搜索关键词： | 设置 条件 较好 地基 水坝 | ||
【主权项】：
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