[发明专利]一种提升金属氧化物薄膜均匀性的磁控溅射腔体

摘要

本发明公开了一种提升金属氧化物薄膜均匀性的磁控溅射腔体，包括腔体，安装在腔体上部的驱动装置、磁性件和靶材，置于腔体内的护板、基片和加热器，安装在腔体侧壁的低温泵；驱动装置和磁性件相连接，靶材置于磁性件的下方，基片通过基座压环安装在加热器上并置于护板围成的空间内，护板安装在靶材与加热器之间，还包括腔体混合进气装置、筛形分气装置和转轴，筛形分气装置安装在腔体内部，腔体的侧壁设置总进气口，腔体混合进气装置通过总进气口与筛形分气装置连通，转轴与加热器连接，用于带动加热器上的基片匀速旋转。本发明通过设置腔体混合进气装置、筛形分气装置和转轴，提高了气体分布均匀性和金属氧化物薄膜均匀性。