[发明专利]涂布机控制方法、装置和存储介质在审
申请号: | 202010179827.9 | 申请日: | 2020-03-16 |
公开(公告)号: | CN111330767A | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 黄闽政 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | B05B12/00 | 分类号: | B05B12/00;B05B12/12 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种涂布机控制方法、涂布机控制装置和存储介质,其中,涂布机控制方法包括:检测涂布机是否在空转;当检测到所述涂布机在空转时,获取所述涂布机空转的时长;确定所述空转时长是否超过预设时长;当所述空转时长超过预设时长时,停止涂布机空转。该方案通过对涂布机空转进行控制,提高了涂布机涂布的基板的均匀度。 | ||
搜索关键词: | 涂布机 控制 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010179827.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种消毒室
- 下一篇:一种水解自动化控制系统