[发明专利]检测装置及光刻设备在审
| 申请号： | 202010182521.9 | 申请日： | 2020-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN113406086A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 韩雪山;申永强 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/956;G03F1/84;G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种检测装置及光刻设备，所述检测装置包括发光单元、遮光单元和探测单元；所述发光单元用于提供光线；所述遮光单元用于控制所述光线的通过，所述光线经过所述遮光单元后，部分所述光线入射至待检测结构并经所述待检测结构散射形成散射信号光；所述探测单元用于接收所述散射信号光，以检测所述待检测结构的颗粒度。即通过所述遮光单元控制所述光线的通过，进而避免所述光线中的杂散光入射到所述待检测结构，从而避免所述杂散光对所述散射信号光造成串扰。进一步的，由于避免了所述杂散光对所述散射信号光造成的串扰，从而提高所述散射信号光的信噪比，提高所述待检测结构的颗粒度的检测精度。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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