[发明专利]一种薄膜制备设备和薄膜制备方法在审
| 申请号： | 202010182755.3 | 申请日： | 2020-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN111206229A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 吴历清;籍龙占;张晓岚;谢丑相;王国昌 | 申请（专利权）人： | 杭州朗旭新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 杨华 |
| 地址： | 310051 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种薄膜制备设备和薄膜制备方法，镀膜室包括n个间隔排列的阴极靶、n个溅射电源、与阴极靶相对设置的基座、将每个阴极靶的镀膜区等分成n个沉积区的分区装置、控制装置，控制装置根据待制备薄膜n行m列个单元的膜厚数据、n个阴极靶的n个沉积区的沉积速率数据，计算出n个阴极靶在m个时间段的溅射功率，并根据计算结果控制对应的溅射电源具有相应的溅射功率，从而可以使得待制备薄膜的n行m列个单元中不同的单元具有不同的膜厚，进而可以根据实际情况灵活高效地制备n、m不同即膜厚分布不同的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 制备 设备 方法 | ||
【主权项】：
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