[发明专利]一种gamma校正系统及方法在审
| 申请号： | 202010185303.0 | 申请日： | 2020-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN111402163A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 董文忠 | 申请（专利权）人： | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 雷霄 |
| 地址： | 430205 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种gamma校正系统及方法。该系统包括：参数计算模块，用于计算gamma校正曲线的N组分段参数，所述gamma校正曲线由N个分段区间的线性函数组成，N为大于1的整数，每组分段参数与每个分段区间的线性函数一一对应；校正模块，所述校正模块基于FPGA平台实现，用于接收并存储所述N组分段参数，还用于接收待校正的输入数据，从所述N组分段参数中读取所述输入数据所属分段区间对应的分段参数，采用读取的分段参数对应的线性函数进行gamma校正，输出经过gamma校正后的数据。本发明适用于在FPGA平台进行gamma校正，同时也适用于处理像素深度大于12bit的图片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 gamma 校正 系统 方法 | ||
【主权项】：
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