[发明专利]一种晶粒高定向取向的镍铂合金溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 202010186265.0 | 申请日： | 2020-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN111304608B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 闻明;郭俊梅;管伟明;谭志龙;王传军;周利民;宋修庆;沈月;普志辉;许彦婷 | 申请（专利权）人： | 贵研铂业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;B22D7/00;C21D9/00;C22C1/02;C22C5/04;C22C19/03;C22F1/02;C22F1/10;C22F1/14;B30B15/34 |
| 代理公司： | 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 | 代理人： | 姜开侠;姜开远 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶粒高定向取向的镍铂合金溅射靶材及其制备方法，所述镍铂合金溅射靶材含镍为1~23.5wt%或30~99wt%，余量为铂，其致密度不低于99.5%，晶粒尺寸5~50μm，其中含镍为1~23.5wt%的靶材呈（111）高定向取向，其（111）与（200）晶面积分强度比不低于3；含镍为30~99wt%的靶材呈（111）高定向取向，其（200）与（111）晶面积分强度比不低于1.2。所述制备方法包括以下步骤：熔炼与浇铸、缺陷检测、真空热压、低温压制、低温退火和产品加工。本发明的镍铂合金溅射靶材呈（111）或（200）晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的薄膜，制备工艺简便，易操控，大大提高生产效率并节约制备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶粒 定向 取向 合金 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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