[发明专利]负型光阻混合物及光阻图案形成方法有效
| 申请号： | 202010187210.1 | 申请日： | 2020-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN111176072B | 公开（公告）日： | 2023-10-03 |
| 发明（设计）人： | 高攀 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 唐秀萍 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种负型光阻混合物及光阻图案形成方法，负型光阻混合物包括香豆素衍生线性聚合物，光阻图案形成方法包括整层涂布负型光阻混合物形成一负型光阻层，使用掩模构件对负型光阻层的遮光部分进行遮光，对负型光阻层未被掩模构件遮住的部分进行曝光，形成曝光部分，曝光部分包括负型光阻层和包裹负型光阻层的体型凝胶，使用显影液对负型光阻层进行蚀刻，去除遮光部分，形成负型光阻图案。 | ||
| 搜索关键词： | 负型光阻 混合物 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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