[发明专利]一种投影调试方法和系统、校正方法和系统在审

专利信息
申请号: 202010191903.8 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN111372065A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 郑崧;郑小华;陈奋发;廖微 申请(专利权)人: 深圳市康帕斯科技发展有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31
代理公司: 广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙) 44446 代理人: 林伟斌
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区坂*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种投影调试方法和系统、校正方法和系统,调试方法包括预设至少一个环境参数条件;选取一个所预设的环境参数条件,当判断当前环境满足所选取的环境参数条件时,对投影仪的投影画面进行几何校正,得到所选取的环境参数条件对应的几何校正参数,对所选取的环境参数条件对应的几何校正参数进行保存;若预设的环境参数条件多于一个时,在所选取的环境参数条件对应的几何校正参数保存后,选取下一个所预设的环境参数条件,并继续判断当前环境是否满足所选取的环境参数条件,直到所有环境参数条件被选取完。本发明克服了在环境变化下单个投影仪投影范围不固定以及投影融合系统投影的融合带不清晰的问题。
搜索关键词: 一种 投影 调试 方法 系统 校正
【主权项】:
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