[发明专利]超大功率光阻玻璃芯片刻蚀用腐蚀液及腐蚀工艺有效
| 申请号： | 202010196777.5 | 申请日： | 2020-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN111363551B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 黄小锋;屠星宇 | 申请（专利权）人： | 常州星海电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C03C15/00 |
| 代理公司： | 常州市华信天成专利代理事务所(普通合伙) 32294 | 代理人： | 何学成 |
| 地址： | 213022 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于玻璃芯片刻蚀技术领域，具体涉及超大功率光阻玻璃芯片刻蚀用腐蚀液及腐蚀工艺，腐蚀液包括粗腐蚀液和精腐蚀液，所述粗腐蚀液由下述体积百分比的组分制成：30—50份38％～42％的氢氟酸，30—40份65％～70％的硝酸，5—10份99.9％的冰乙酸，5—15份96％～98％的硫酸，1—5份的饱和氟盐溶液；所述精腐蚀液由下述体积百分比的组分制成：25—30份38％～42％的氢氟酸，25—30份65％～70％的硝酸，30—40份99.9％的冰乙酸，10—15份96％～98％的硫酸；其中粗腐蚀液中腐蚀温度为10—30℃；精腐蚀液中的腐蚀温度为‑10℃—‑4℃。该腐蚀液包括粗腐蚀液和精腐蚀液，通过不同腐蚀速率的腐蚀液相配合，开沟速率快，开沟深度误差小，提高芯片质量。 | ||
| 搜索关键词： | 超大 功率 玻璃 芯片 刻蚀 腐蚀 工艺 | ||
【主权项】：
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