[发明专利]一种碳化硼-石墨烯微叠层复合材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010197647.3 申请日: 2020-03-19
公开(公告)号: CN111499385B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 张帆;高利;龚宇澄;任琳;赵天颢 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C04B35/52 分类号: C04B35/52;C04B35/563;C04B35/622;C04B35/64
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 乔宇
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种碳化硼/石墨烯微叠层复合材料的制备方法。本发明提供一种碳化硼/石墨烯微叠层复合材料,包括交替排布的碳化硼(B4C)层和碳化硼‑石墨烯层,其中,所述的碳化硼‑石墨烯层为掺杂有还原氧化石墨烯的B4C层,通过掺杂氧化石墨烯经热处理还原成rGO引入,rGO的掺量为0.5‑10wt%。其通过制备纯B4C和rGO增强的B4C交替的微叠层结构,经SPS烧结获得致密的碳化硼/石墨烯微叠层复合材料。与纯B4C陶瓷相比,采用该工艺制备的碳化硼/石墨烯微叠层复合材料在保持高硬度的同时可以提高断裂韧性。本发明提供的碳化硼/石墨烯微叠层复合材料结构致密,具有明显层状结构,B4C和B4C‑石墨烯层分布均匀,在保持高硬度和高强度的同时,可以提高断裂韧性。
搜索关键词: 一种 碳化 石墨 烯微叠层 复合材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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