[发明专利]一种碳膜沉积装置有效

专利信息
申请号: 202010198904.5 申请日: 2020-03-20
公开(公告)号: CN111364004B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 程文雅 申请(专利权)人: 珠海凯赛奥表面技术有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/32;C23C14/14
代理公司: 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 代理人: 李冬梅
地址: 519001 广东省珠海市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种碳膜沉积装置,包括:真空腔室、设置于真空腔室顶部的抽真空装置、设置于真空腔室一侧的磁过滤装置,真空腔室与磁过滤装置相对的一侧设有进气口。磁过滤装置包括磁过滤弯管、与磁过滤弯管连通的磁过滤直管、设置在磁过滤弯管外侧的聚焦磁场、设置在磁过滤直管外侧高频磁场。磁过滤弯管与磁过滤直管以第一预定角度耦合;磁过滤直管与第一阳极筒连接,第一阳极筒外套设有第一阴极套;磁过滤弯管与第二阳极筒连接,第二阳极筒外套设有第二阴极套;第二阴极套内的第二阴极材料为碳。本发明的碳膜沉积装置的磁过滤直管与磁过滤弯管耦合,沉积的碳膜内应力小,几乎无碳颗粒,膜层硬度高。
搜索关键词: 一种 沉积 装置
【主权项】:
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