[发明专利]界面叠层薄膜及其制备方法和在钝化接触电池中的应用

摘要

本发明公开了一种界面叠层薄膜，包括衬底，衬底表面设置有第一钝化层，第一钝化层表面设置有厚度为0.5‑5nm缓冲层，缓冲层表面设置有非晶硅层，所述第一钝化层与所述衬底界面处的载流子浓度为3‑8*1019cm‑3。本发明的优点和有益效果：1)“硅衬底/氧化硅/氧化铝/多晶硅”的结构简单，性能可靠，易于制备；2)氧化铝缓冲层的引入可以有效提升p型钝化接触结构的钝化性能和接触性能；3)氧化铝材料易于制备，是现有光伏产业已有装备可以制备的材料；4)氧化铝/氧化硅双层界面钝化层更加稳定，可以承受更高的温度，有利于兼容高温工艺、拓展工艺温度区间。