[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010201548.8 | 申请日： | 2020-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111755312A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 太田浩史;花冈秀敏;铃木步太 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置能够减少在覆盖环的外侧附着的反应副产物。等离子体处理装置具有载置台、导电性构件以及第1绝缘构件。载置台为具有用于载置基板的载置部和设于比载置部低的位置的台阶部的导电性的载置台。导电性构件配设于台阶部，延伸到比载置台的外缘靠外侧的位置。第1绝缘构件配置于导电性构件的上表面。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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