[发明专利]一种基于交叉相位调制的快速对焦暗场成像装置及方法在审
| 申请号： | 202010202409.7 | 申请日： | 2020-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111239997A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 程雪梅;李松庭;张倩;陈浩伟;白晋涛 | 申请（专利权）人： | 西北大学 |
| 主分类号： | G02B21/10 | 分类号： | G02B21/10;G02B21/08;G02B21/36;G02F1/35 |
| 代理公司： | 东莞市科安知识产权代理事务所(普通合伙) 44284 | 代理人： | 曾毓芳 |
| 地址： | 710069 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出一种基于交叉相位调制的快速对焦暗场成像装置及方法，所述装置包括：光源系统、交叉相位调制系统和显微成像系统，所述光源系统产生激光束并输出至交叉相位调制系统，所述交叉相位调制系统将光源系统输入的激光束分成泵浦激光束和探测激光束，所述泵浦激光束和探测激光束进行交叉相位调制后产生空心光束，并输出至显微成像系统，所述显微成像系统基于所述空心光束进行暗场成像。本发明基于交叉相位调制技术实现快速对焦暗场成像，利用探测激光束在交叉相位调制中产生的空心光束代替现有透射式暗场成像装置中的挡光板，提高了暗场成像光强度，并通过泵浦光功率调节空心光束尺寸来进行快速对焦，革新了现有暗场成像装置，市场前景广阔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 交叉 相位 调制 快速 对焦 暗场 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
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