[发明专利]一种抗冲击CVD金刚石自支撑材料及制造方法在审

专利信息
申请号: 202010202431.1 申请日: 2020-03-20
公开(公告)号: CN111286718A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 李卫 申请(专利权)人: 廊坊西波尔钻石技术有限公司
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/52;C23C16/01
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 065300 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 本申请公开了一种抗冲击CVD金刚石自支撑材料及制造方法,包括基体和位于所述基体表层的生长层;所述生长层为多层结构,其中,包括相间设置的多个第一晶粒层和第二晶粒层;所述第一晶粒层的晶粒大小大于所述第二晶粒层的晶粒大小。本申请提供的CVD金刚石自支撑材料通过相间设置多个晶粒大小不同的晶粒层,使金刚石的断面呈现细晶粒与粗晶粒交错生长的多层结构,通过多层结构阻断裂纹的延伸,从而提高抗冲击性能和抗断裂强度;通过细晶粒填补粗晶粒层的缺陷,而粗晶粒层又能保持材料的耐磨性,从而在不损失耐磨性的基础上提高抗冲击性能和抗断裂强度。
搜索关键词: 一种 冲击 cvd 金刚石 支撑 材料 制造 方法
【主权项】:
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