[发明专利]一种抗冲击CVD金刚石自支撑材料及制造方法在审
申请号: | 202010202431.1 | 申请日: | 2020-03-20 |
公开(公告)号: | CN111286718A | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 李卫 | 申请(专利权)人: | 廊坊西波尔钻石技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/52;C23C16/01 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 逯长明;许伟群 |
地址: | 065300 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本申请公开了一种抗冲击CVD金刚石自支撑材料及制造方法,包括基体和位于所述基体表层的生长层;所述生长层为多层结构,其中,包括相间设置的多个第一晶粒层和第二晶粒层;所述第一晶粒层的晶粒大小大于所述第二晶粒层的晶粒大小。本申请提供的CVD金刚石自支撑材料通过相间设置多个晶粒大小不同的晶粒层,使金刚石的断面呈现细晶粒与粗晶粒交错生长的多层结构,通过多层结构阻断裂纹的延伸,从而提高抗冲击性能和抗断裂强度;通过细晶粒填补粗晶粒层的缺陷,而粗晶粒层又能保持材料的耐磨性,从而在不损失耐磨性的基础上提高抗冲击性能和抗断裂强度。 | ||
搜索关键词: | 一种 冲击 cvd 金刚石 支撑 材料 制造 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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