[发明专利]一种高硼硅玻璃蚀刻液及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 202010203994.2 | 申请日： | 2020-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN111362584B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 熊国祥 | 申请（专利权）人： | 郑州恒昊光学科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 郑州铭晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 41134 | 代理人： | 张鹏 |
| 地址： | 450000 河南省郑州*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明属于高硼硅玻璃蚀刻技术领域，具体涉及一种高硼硅玻璃蚀刻液及其制备方法和用途。所述高硼硅玻璃蚀刻液的原料包括混合酸、氟氢化物、氟硅酸盐、表面活性剂、可溶金属硫酸盐、可溶金属盐酸盐、中间填充物和水，所述高硼酸玻璃蚀刻液的原料之间可形成稳定络合物；所述混合酸包括硫酸、硝酸、磷酸和盐酸，所述表面活性剂为硼砂。该高硼硅玻璃蚀刻液可对高硼硅玻璃进行均匀蚀刻，防眩效果好，可满足光电子领域的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高硼硅 玻璃 蚀刻 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
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