[发明专利]非接触式熔融金属流动控制有效
申请号: | 202010205043.9 | 申请日: | 2015-05-21 |
公开(公告)号: | CN111347018B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | S.R.沃斯塔夫;W.J.芬顿;R.B.沃斯塔夫;M.费尔伯鲍姆;T.F.比肖夫;T.J.科斯米基 | 申请(专利权)人: | 诺维尔里斯公司 |
主分类号: | B22D11/103 | 分类号: | B22D11/103;B22D11/18;B22D21/04;B22D27/02;B22D41/50;B22D46/00;C22C21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 蔡宗鑫;王玮 |
地址: | 美国乔*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开用于在铸造(例如,铸锭、钢坯或片坯的铸造)期间使用磁场(例如,变化的磁场)来控制金属流动状态的系统和方法。所述磁场可使用旋转的永磁体或电磁体来引入。所述磁场可用于在所述熔融池的表面周围诱导所述熔融金属在期望的方向上、诸如以旋转模式移动。所述磁场可用于在所述熔融池中诱导出金属流动状态以提高所述熔融池和所产生铸锭中的均一性。 | ||
搜索关键词: | 接触 熔融 金属 流动 控制 | ||
【主权项】:
暂无信息
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