[发明专利]用于制备同位素的装置在审

专利信息
申请号: 202010205898.1 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN111370154A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 于宁文;罗志福;邓新荣;向学琴 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G21G1/02 分类号: G21G1/02;G21G1/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张成新
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种用于制备同位素的装置,包括:设于反应堆(200)内的辐照单元(1),其中用于制备同位素的原料在所述辐照单元(1)内接受辐照;连接单元(3);设于反应堆(200)外的供料和收集模块(2),设置为向所述辐照单元(1)提供所述原料并收集所述辐照单元(1)内反应的产物,所述供料和收集模块(2)通过所述连接单元(3)与所述辐照单元(1)连接;以及设于反应堆(200)外的监控模块(4),所述监控模块(4)连接至所述连接单元(3),设置为检测并控制所述原料的供应情况和/或所述产物的收集情况。
搜索关键词: 用于 制备 同位素 装置
【主权项】:
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