[发明专利]一种真空环境下面积扩展制备金属薄膜的装置及方法有效

专利信息
申请号: 202010206122.1 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN111360146B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 王悦;王继杰;王志伟;农智升;刘春忠;刘兴民;邓希光;卢少微;李壮 申请(专利权)人: 沈阳航空航天大学
主分类号: B21D33/00 分类号: B21D33/00;B21D37/16;B21C51/00
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 代理人: 宁佳
地址: 110136 辽宁省沈*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种真空环境下面积扩展制备金属薄膜的装置及方法,装置包括真空炉,炉内设有实验台并固定于机械手装置,台上设加压装置、反射平面镜和聚光凸透镜,台表面设有高熔点金属圈。该方法利用真空环境中无空气的特点,采用高熔点合金丝围成面积可控圆形,金属圈正中放置一个低熔点金属块,聚集太阳光熔成金属液,通过表面张力粘着在金属丝上。因真空环境无热传导和热对流,换热只能通过热辐射,故金属液散热很慢,不易凝固,升温至略高于低熔点金属熔点后,金属溶液因表面张力粘着于合金丝,随金属圈的面积增大金属溶液逐步扩展成薄膜。该方法结合物理变化无介质的热传递过程,材料利用率高,制备过程简单高效、环保节能,成膜表面质量高,性能优异。
搜索关键词: 一种 真空 环境 面积 扩展 制备 金属 薄膜 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳航空航天大学,未经沈阳航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010206122.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top