[发明专利]一种真空环境下面积扩展制备金属薄膜的装置及方法有效
申请号: | 202010206122.1 | 申请日: | 2020-03-23 |
公开(公告)号: | CN111360146B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 王悦;王继杰;王志伟;农智升;刘春忠;刘兴民;邓希光;卢少微;李壮 | 申请(专利权)人: | 沈阳航空航天大学 |
主分类号: | B21D33/00 | 分类号: | B21D33/00;B21D37/16;B21C51/00 |
代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人: | 宁佳 |
地址: | 110136 辽宁省沈*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种真空环境下面积扩展制备金属薄膜的装置及方法,装置包括真空炉,炉内设有实验台并固定于机械手装置,台上设加压装置、反射平面镜和聚光凸透镜,台表面设有高熔点金属圈。该方法利用真空环境中无空气的特点,采用高熔点合金丝围成面积可控圆形,金属圈正中放置一个低熔点金属块,聚集太阳光熔成金属液,通过表面张力粘着在金属丝上。因真空环境无热传导和热对流,换热只能通过热辐射,故金属液散热很慢,不易凝固,升温至略高于低熔点金属熔点后,金属溶液因表面张力粘着于合金丝,随金属圈的面积增大金属溶液逐步扩展成薄膜。该方法结合物理变化无介质的热传递过程,材料利用率高,制备过程简单高效、环保节能,成膜表面质量高,性能优异。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 环境 面积 扩展 制备 金属 薄膜 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳航空航天大学,未经沈阳航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010206122.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多型号喷头替换型生物3D打印装置
- 下一篇:一种抗菌防霉纤维笔头及其制备方法