[发明专利]一种图形化蓝宝石复合衬底及其制备方法

摘要

本发明公开了一种图形化蓝宝石复合衬底及制备方法，衬底包括平片蓝宝石衬底和SiO2异质薄膜；在异质薄膜端有高度1.2‑2.2um、底径1.2‑4.5um和周期1.5‑4.0um的圆锥图形，圆锥图形全部分布在异质薄膜层或分布在异质薄膜层和平片蓝宝石衬底的上端，平片蓝宝石衬底刻蚀深度为50‑300nm。该衬底通过激光扫描底部加热的方法纠正弯曲的平片蓝宝石衬底晶格失配，复合蓝宝石衬底的制备，匀胶机匀胶，掩模层的形成，硅胶软膜的制备，掩模层图形化及用ICP设备进行等离子体刻蚀形成有规则的圆锥图形等制成。本发明有效纠正了蓝宝石晶格失配，释放了蓝宝石内部应力，增加了光提取效率，提高了生产效率，降低了成本。