[发明专利]一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统及扫描方法在审
| 申请号： | 202010209410.2 | 申请日： | 2020-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN111211404A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 汪渊;谢照川;李伟;尹治强;李超;邓方科 | 申请（专利权）人： | 成都华芯天微科技有限公司 |
| 主分类号： | H01Q1/28 | 分类号： | H01Q1/28;H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q3/20;H01Q13/02;H01Q15/14;H01Q19/185 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 张巨箭 |
| 地址： | 610000 四川省成都市中国（四川）自由*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统及扫描方法，包括平面反射阵天线模块(12)、副反射面(9)、馈源(8)和电机系统，平面反射阵天线模块(12)与电机系统连接，电机系统与副反射面(9)连接，馈源(8)安装在平面反射阵天线模块(12)的正中心，副反射面(9)位于馈源(8)正上方，平面反射阵天线模块(12)包括从上到下依次连接的天线层(5)、控制层(6)和电源层(7)，馈源(8)发出电磁波给副反射面(9)，电机系统控制副反射面(9)的旋转，该系统能够实现离轴角±α，旋转角360°的波束扫描，该系统具有更低的剖面、更高的增益，占用空间小，且系统高度集成化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 旋转 剖面 扫描 平面 天线 系统 方法 | ||
【主权项】：
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