[发明专利]基于磁性介孔硅纳米粒子的光响应型分子印迹聚合物、制备方法及用途有效

专利信息
申请号: 202010209849.5 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN111495344B 公开(公告)日: 2023-02-17
发明(设计)人: 杨文明;高闽敏;倪晓霓;殷锡峰;张利明;曹云飞;李天柱;黄卫红;徐婉珍 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: B01J20/286 分类号: B01J20/286;B01J20/30;B01D15/38;G01N30/02;G01N30/06;G01N30/74
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于检测材料制备技术领域,涉及一种基于磁性介孔硅纳米粒子的光响应型分子印迹聚合物、制备方法及用途。首先制备四氧化三铁纳米粒子、合成介孔二氧化硅包覆四氧化铁纳米球,然后对介孔二氧化硅包覆四氧化铁纳米球的化学双键修饰;制备光敏单体,最后得到基于磁性介孔硅的光响应型印迹材料;本发明制备的光响应型印迹聚合物,可以解决传统吸附材料解离效率低的问题;该印迹聚合物具有与发明目标一致的明显的核壳结构;同时,本发明结合分子印迹材料与光响应智能材料的性能,成功的应用于对磺胺甲基嘧啶的高效检测。
搜索关键词: 基于 磁性 介孔硅 纳米 粒子 响应 分子 印迹 聚合物 制备 方法 用途
【主权项】:
暂无信息
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