[发明专利]基于磁性介孔硅纳米粒子的光响应型分子印迹聚合物、制备方法及用途有效
申请号: | 202010209849.5 | 申请日: | 2020-03-23 |
公开(公告)号: | CN111495344B | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
发明(设计)人: | 杨文明;高闽敏;倪晓霓;殷锡峰;张利明;曹云飞;李天柱;黄卫红;徐婉珍 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | B01J20/286 | 分类号: | B01J20/286;B01J20/30;B01D15/38;G01N30/02;G01N30/06;G01N30/74 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明属于检测材料制备技术领域,涉及一种基于磁性介孔硅纳米粒子的光响应型分子印迹聚合物、制备方法及用途。首先制备四氧化三铁纳米粒子、合成介孔二氧化硅包覆四氧化铁纳米球,然后对介孔二氧化硅包覆四氧化铁纳米球的化学双键修饰;制备光敏单体,最后得到基于磁性介孔硅的光响应型印迹材料;本发明制备的光响应型印迹聚合物,可以解决传统吸附材料解离效率低的问题;该印迹聚合物具有与发明目标一致的明显的核壳结构;同时,本发明结合分子印迹材料与光响应智能材料的性能,成功的应用于对磺胺甲基嘧啶的高效检测。 | ||
搜索关键词: | 基于 磁性 介孔硅 纳米 粒子 响应 分子 印迹 聚合物 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
暂无信息
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