[发明专利]一种生产低位错密度铸造单晶锭或多晶硅锭时的籽晶铺设方法有效

专利信息
申请号: 202010217070.8 申请日: 2020-03-25
公开(公告)号: CN111441083B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 周耐根;刘世龙;刘淑慧 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: C30B13/34 分类号: C30B13/34;C30B29/06;B28D5/00;C30B13/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本发明专利公开了一种生产低位错密度铸造单晶锭或多晶硅锭时的籽晶铺设方法,包括以下步骤:S1,直拉单晶圆棒去除边皮后得到无圆角的单晶方棒;S2,将所述单晶方棒切割成大籽晶块;S3,将所述大籽晶块再次切割成小籽晶块或籽晶条;S4,将所述小籽晶块或者籽晶条铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层;S5,在所述籽晶层上放置原生多晶硅料和头尾边等循环料;S6,将所述装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭或多晶硅锭;S7,将所述硅锭进行开方,开方后得到小方锭;S8,将所述小方锭进行切片后得到铸造单晶硅片或多晶硅片;铺设时高籽晶和矮籽晶交替搭配,使高籽晶和矮籽晶相接触的侧面完美融合,减少了位错出现的概率。
搜索关键词: 一种 生产 低位 密度 铸造 单晶锭 多晶 硅锭时 籽晶 铺设 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌大学,未经南昌大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010217070.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top