[发明专利]基板处理设备在审
| 申请号： | 202010221967.8 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN111755313A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 田中宏治;高桥祐树 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种基板处理设备的示例包括：基座；轴，其支撑基座；流动控制环，其围绕基座同时相对于基座提供间隙；排气管，其布置在流动控制环正上方；板，其设置在基座上方；室，其围绕基座、流动控制环、排气管和板；以及联接部，其将轴联接至室，其中，所述联接部的至少一部分是绝缘体。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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