[发明专利]一种含砷颗粒物的去除设备机在审
| 申请号： | 202010228933.1 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN111482004A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 董耀明 | 申请（专利权）人： | 广深高阶电子工程（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | B01D46/00 | 分类号： | B01D46/00;B01D53/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种含砷颗粒物的去除设备机，其包括机壳、滤箱架、第一滤箱、第二滤箱、气管组件及排气组件；滤箱架设置在机壳内，第一滤箱和第二滤箱从上到下依次间隔设置在滤箱架上；第一滤箱从下到上依次设有第一粉尘容置槽、第一有害中和槽、第一除湿吸附槽及第一高效滤棉层；第二滤箱从下到上依次设有第二粉尘容置槽、第二有害中和槽、第二除湿吸附槽，这样，半导体制造过程产生的含砷废气由第一入气管输入后，通过三通管、第二入气管及第三入气管可分别进入第一滤箱和/或第二滤箱，并经过第一滤箱和/或第二滤箱过滤后，可将含砷颗粒物截留在第一滤箱和/或第二滤箱内，而符合国家环保要求的废气，再通过排气组件送出，有利于环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 颗粒 去除 设备 | ||
【主权项】：
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