[发明专利]一种用于边界层转捩控制的“⊥”型凹腔结构有效
| 申请号： | 202010231383.9 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN111550475B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 禹旻;刘智勇;冯峰;杨武兵 | 申请（专利权）人： | 中国航天空气动力技术研究院 |
| 主分类号： | F15D1/00 | 分类号： | F15D1/00 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 茹阿昌 |
| 地址： | 100074 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明一种用于边界层转捩控制的“⊥”型凹腔结构，该凹腔结构相比于原有凹腔结构，在底部增加了下凹腔部分，形成由上、下凹腔组合的“⊥”型凹腔结构。该凹腔结构用于转捩控制的实现方式为：首先通过数值模拟或风洞试验等手段，确定飞行器表面的转捩过程；然后将凹腔设置在需要进行流动控制的飞行器表面的转捩区上游；最后通过调整影响流动状态的重要外形参数和边界层参数达到所需的边界层转捩控制效果。本发明凹腔结构的优点在于：低压损、控制作用明显，不需要额外能量，产生噪声小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 边界层 转捩 控制 型凹腔 结构 | ||
【主权项】：
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