[发明专利]一种制备聚对二甲苯薄膜的装置及方法在审
申请号: | 202010232026.4 | 申请日: | 2020-03-27 |
公开(公告)号: | CN111424262A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 耿照新;王朝阳 | 申请(专利权)人: | 中央民族大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/448;C23C16/458;H01Q15/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 黄爽 |
地址: | 100083 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种制备聚对二甲苯薄膜的装置及方法。所述装置包括支架台及置于支架台台面用于沉积聚对二甲苯薄膜的基片,还包括扣于所述基片上方的多孔导流罩;所述多孔导流罩与所述支架台台面之间形成可供气体流通的中空腔体;本发明通过设置多孔导流罩,使得聚对二甲苯薄膜能够致密性生长,有效解决了现有技术中聚对二甲苯薄膜表面粗糙、不平整、坏点率高、致密性差等问题。所述制备聚对二甲苯薄膜的方法,利用所述装置进行化学气相沉积。本发明通过对装置以及工艺的优化,提高了成膜质量,降低了聚对二甲苯薄膜的坏点率,从而减少了柔性超材料基底的自身损耗,有效提高了超材料的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 二甲苯 薄膜 装置 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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