[发明专利]均匀圆阵列综合孔径辐射计亮温反演成像方法有效

专利信息
申请号: 202010233551.8 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN111538000B 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 黄建;裴乃昌;熊阳 申请(专利权)人: 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所)
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 刘小彬
地址: 610036 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开的一种均匀圆阵列综合孔径辐射计亮温反演成像方法,旨在提供一种反演精度高,能够缩短反演计算时间的UCSAIR亮温反演成像方法。本发明通过下述技术方案实现:在建立谱域极坐标系下,以UCSAIR基线谱域极径从小到大为行序、基线谱域极角从小到大为列序,将对应的可见度函数排列成可见度函数矩阵形式;然后进行一维横向插值和横向FFT,再进行一维纵向插值,计算快速汉克尔变换格点对应数值,并进行纵向汉克尔变换,然后进行横向一维傅里叶逆变换,变换后的矩阵经过亮温标定即得到空间极坐标下观察空间各点亮温分布矩阵,根据亮温分布矩阵元素位置与空间方向对应关系显示亮温图像,实现亮温反演成像。
搜索关键词: 均匀 阵列 综合 孔径 辐射计 反演 成像 方法
【主权项】:
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