[发明专利]量子点图案化方法、装置及系统在审
| 申请号： | 202010235160.X | 申请日： | 2020-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN111427111A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 赵金阳 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B6/00;B05C9/02;B05D1/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种量子点图案化方法、装置及系统，该量子点图案化方法包括：提供一基片，在基片的下方通过下电极基板设置多个下电极，在基片的上方通过上电极基板设置多个上电极，下电极和上电极相对设置，从而形成基片加上下对组电极的三明治结构。基片处于多个上电极和多个下电极之间，在基片上涂布量子点溶液，并对上电极和下电极通电而使上电极和下电极之间形成电场，使得量子点溶液在上电极和下电极之间根据电场分布进行聚集。随后，利用蒸发溶剂的方法使量子点溶液沉积成膜，在基片上得到图案化的量子点薄膜。本申请不需要在基片上加工图案化电极就能得到图案化的量子点薄膜，工艺简单、适合大规模生产，能增强图案化量子点的广泛应用。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 图案 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
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