[发明专利]光学残差深度网络构建方法有效

专利信息
申请号: 202010235941.9 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN111461300B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 邓岳;窦泓焜 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G06N3/04 分类号: G06N3/04;G06N3/067;G06V40/30;G06V30/10;G06V10/82
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 曹鹏飞
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种光学残差深度网络构建方法,包括以下步骤:S1、构建光学残差模块;S2、将多个光学残差模块依次排列,构建为光学残差深度网络模型;S3、训练光学残差深度网络模型,保存分束比与衍射层像素厚度;S4、获得光学残差深度网络。其中步骤S1中构建光学残差模块的具体步骤为:S11、光线通过分束镜(3)后分为两路;S12、一路光线通过两个光衍射层(1)和两个光学非线性层(2)传播;S13、另一路光线通过两个反射镜(4)传播;S14、将两路光进行叠加,完成光学残差模块的构建。
搜索关键词: 光学 深度 网络 构建 方法
【主权项】:
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