[发明专利]一种在CVD钻石表面镀多层介质膜的方法在审
| 申请号： | 202010239322.7 | 申请日： | 2020-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN111323850A | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 赵芬霞;刘宏明 | 申请（专利权）人： | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;C01B32/28 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 邓凌云 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及设计材料加工技术领域，且公开了一种在CVD钻石表面镀多层介质膜的方法，包括以下步骤：步骤一、准备工作，准备需要的真空镀膜机、分光光度计和扩散泵；步骤二、挑选材料，挑选规格合适的CVD钻石和镀膜介质，并将CVD钻石进行备用；步骤三、真空镀膜机清理，清理真空镀膜机钟罩内部的杂质和灰尘；步骤四、扩散泵预热，将扩散泵进行运行预热；步骤五、真空处理，使用步骤四中预热后的扩散泵对真空镀膜机的钟罩内部进行抽真空处理。该在CVD钻石表面镀多层介质膜的方法，便于在CVD钻石的表镀制多层介质膜，介质膜可以进一步提升CVD钻石光学镜片的光学特性及耐用性，通过该方法制作的光学晶片可以代替光学玻璃用于航空和电子学工业。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 钻石 表面 多层 介质 方法 | ||
【主权项】：
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