[发明专利]提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性的镀膜方法有效
| 申请号： | 202010239590.9 | 申请日： | 2020-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN111378934B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 邵建达;曾婷婷;朱美萍;李静平;宋晨;赵娇玲;郭猛;胡国行 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/32;C23C14/08;C23C14/10 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术，提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜，以获得较高的抗激光损伤阈值；利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹层，将整个常规电子束蒸镀薄膜包裹其中，以阻止水分子进出膜系。本发明能够在不增加膜系设计难度且维持电子束薄膜较高损伤阈值的同时，降低整个膜系的应力水平并提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 提升 电子束 薄膜 元件 光谱 应力 时效 稳定性 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
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