[发明专利]研磨微粒及其制造方法、研磨剂在审
申请号: | 202010240378.4 | 申请日: | 2020-03-31 |
公开(公告)号: | CN111500258A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 杨鹏;高峰;杨剑 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 岳丹丹 |
地址: | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 公开了一种研磨微粒及其制造方法,所述研磨微粒包括:核心,所述核心的形状为球状结构弹性芯体,在压力作用下会发生弹性形变;包裹所述核心的第一核壳,所述第一核壳为研磨层,用于对目标材料进行研磨,其中,所述第一核壳具有介孔结构。本发明提供的研磨微粒,是由多孔碳核心和氧化铈第一核壳构成的微球结构,且多孔碳核心在压力下可以发生弹性形变,因此可以降低研磨微粒不规则表面而造成的划伤半导体表面的风险,另外,由于第一核壳为介孔结构,可以提高研磨微粒的韧性,降低研磨微粒在使用中的破损率。 | ||
搜索关键词: | 研磨 微粒 及其 制造 方法 研磨剂 | ||
【主权项】:
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