[发明专利]研磨微粒及其制造方法、研磨剂在审

专利信息
申请号: 202010240378.4 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN111500258A 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 杨鹏;高峰;杨剑 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 岳丹丹
地址: 430074 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 公开了一种研磨微粒及其制造方法,所述研磨微粒包括:核心,所述核心的形状为球状结构弹性芯体,在压力作用下会发生弹性形变;包裹所述核心的第一核壳,所述第一核壳为研磨层,用于对目标材料进行研磨,其中,所述第一核壳具有介孔结构。本发明提供的研磨微粒,是由多孔碳核心和氧化铈第一核壳构成的微球结构,且多孔碳核心在压力下可以发生弹性形变,因此可以降低研磨微粒不规则表面而造成的划伤半导体表面的风险,另外,由于第一核壳为介孔结构,可以提高研磨微粒的韧性,降低研磨微粒在使用中的破损率。
搜索关键词: 研磨 微粒 及其 制造 方法 研磨剂
【主权项】:
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