[发明专利]一种基于改进混合优化算法的纳米薄膜参数反演计算方法在审
申请号: | 202010242951.5 | 申请日: | 2020-03-31 |
公开(公告)号: | CN111336935A | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 雷李华;傅云霞;张馨尹;吴俊杰;刘娜;张波;管钰晴;曾燕华;孙佳媛;谢张宁 | 申请(专利权)人: | 上海市计量测试技术研究院;中国计量大学 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G06N3/08 |
代理公司: | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 31113 | 代理人: | 龚英 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明为一种基于改进混合优化算法的纳米薄膜参数反演计算方法,其特征在于:所述的纳米薄膜是在基底层上镀介质薄膜后形成的顺序由基底层、中间层和介质薄膜层组成的三层结构纳米薄膜,所述的混合优化算法是利用爬山算法对全连接神经网络的权值进行迭代优化而建立的混合优化算法,通过对椭偏仪测量介质薄膜层得到的椭偏参数值进行数据反演计算,并结合测量时的环境参数值和基底层已知参数值以得出纳米薄膜的厚度及光学参数。本发明保证了利用椭偏仪的测量数据计算出介质薄膜层厚度及光学常数这一过程精确且快速,为利用光谱型椭偏仪测量介质薄膜层的参数提供了数据处理方法保障。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 改进 混合 优化 算法 纳米 薄膜 参数 反演 计算方法 | ||
【主权项】:
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