[发明专利]基片台及用等离子体原位清洗的方法在审

专利信息
申请号: 202010244812.6 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN111441034A 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 满卫东;龚闯;朱长征;吴剑波 申请(专利权)人: 上海征世科技有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/458;C23C16/517
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 周琼
地址: 201799 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种基片台,所述基片台包含一个轴对称的圆柱形真空腔体,在所述真空腔体内的中央处,放置一个带金属丝的金属底座。在进行真空腔内壁的表面清洁过程中,微波馈入真空腔后,金属丝靠近真空腔壁端的针刺状结构由于微波电场容易在金属尖端处产生“尖端放电”效应,将真空腔体内的气体激发产生等离子体,等离子体靠近真空腔壁从而对真空腔内壁进行等离子体清洁作用,产生的副产物被真空系统给抽走,金属丝随着基片台的旋转运动和上下运动,使得金属丝尖端放电端能将真空腔内壁进行有效清洁。该方法操作简单,清洁效果明显。
搜索关键词: 基片台 等离子体 原位 清洗 方法
【主权项】:
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