[发明专利]一种双光子无掩膜曝光系统在审
| 申请号： | 202010251753.5 | 申请日： | 2020-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN111352311A | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 朱天宇;梅文辉;杜卫冲 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 | 代理人： | 石辉;赵立军 |
| 地址： | 528437 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双光子无掩膜曝光系统，其包括光源、扩束单元、照明单元、光学引擎阵列、基板和移动平台，光源用于光源输出可见光或近红外光的激光光束；扩束单元用于将入射到激光光束的光斑面积增大，以使经由照明单元入射到光学引擎阵列的入射面的激光光束；照明单元对入射的激光光束光斑的每一点的能量进行均匀处理，光学引擎阵列生成曝光所需的曝光图案，移动平台安装在稳定的平台上，用于移动所需曝光的基板，基板涂覆有光刻胶层，光学引擎阵列出射的曝光光束照射到光刻胶层上，将该曝光图案转换到基板上。本发明能够有效提高无掩膜曝光时候图像的分辨率，能够高效快速地大面积曝光，从而提高生产效率与生产质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光子 无掩膜 曝光 系统 | ||
【主权项】：
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