[发明专利]一种用于半导体材料抛光的激光加工技术在审
申请号: | 202010257710.8 | 申请日: | 2020-04-03 |
公开(公告)号: | CN111390392A | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 管迎春;尹志彬 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | B23K26/352 | 分类号: | B23K26/352 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明涉及一种用于半导体材料抛光的激光加工技术,属于激光加工技术领域,具体包括四个步骤:步骤一,将待处理的目标试样表面进行清洗并烘干;步骤二,将目标试样固定于运动载台,并启动气氛控制系统;步骤三,设定激光扫描工艺路径和抛光参数,进行激光抛光;步骤四,成品检测。与现有技术相比,该加工方法具有加工周期短,自动化程度高,精度高,成本低,绿色无污染。且加工过程不存在刀具磨损,抛光效率可达100cm |
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搜索关键词: | 一种 用于 半导体材料 抛光 激光 加工 技术 | ||
【主权项】:
暂无信息
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