[发明专利]一种用于半导体材料抛光的激光加工技术在审

专利信息
申请号: 202010257710.8 申请日: 2020-04-03
公开(公告)号: CN111390392A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 管迎春;尹志彬 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: B23K26/352 分类号: B23K26/352
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种用于半导体材料抛光的激光加工技术,属于激光加工技术领域,具体包括四个步骤:步骤一,将待处理的目标试样表面进行清洗并烘干;步骤二,将目标试样固定于运动载台,并启动气氛控制系统;步骤三,设定激光扫描工艺路径和抛光参数,进行激光抛光;步骤四,成品检测。与现有技术相比,该加工方法具有加工周期短,自动化程度高,精度高,成本低,绿色无污染。且加工过程不存在刀具磨损,抛光效率可达100cm2/h以上,表面粗糙度可降低50%以上。
搜索关键词: 一种 用于 半导体材料 抛光 激光 加工 技术
【主权项】:
暂无信息
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