[发明专利]用于选择性蚀刻氮化钛的组合物和方法在审
| 申请号： | 202010258552.8 | 申请日： | 2014-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN111394100A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 陈丽敏;斯蒂芬·里皮;埃马纽尔·I·库珀;宋凌雁 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;C09K13/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及用于选择性蚀刻氮化钛的组合物和方法。本发明提供可用于从上面具有氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的微电子器件相对于金属导电材料例如钴、钌和铜以及绝缘材料而言选择性去除氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的组合物。所述去除组合物含有至少一种氧化剂和一种蚀刻剂，可含有各种腐蚀抑制剂以确保选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 选择性 蚀刻 氮化 组合 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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