[发明专利]一种限位元件以及一种等离子体处理设备在审
| 申请号： | 202010259018.9 | 申请日： | 2020-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN111293029A | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 孟文钱;丁滔滔;聂峥;邢瑞远 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 尹秀 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种限位元件以及一种等离子体处理设备，该限位元件具有凹槽，凹槽的底部用于容纳晶圆，凹槽的底部的面积小于凹槽的开口的面积，且凹槽的底部面积不小于晶圆的面积，从而在放置晶圆时，可以使晶圆比较容易的放入凹槽的开口内，降低对晶圆放置的精准度要求，进而降低由于晶圆与限位元件直接接触摩擦使得晶圆被划伤的概率，而且由于连接凹槽的底部和凹槽的开口的侧壁呈现倾斜状态，在放置晶圆时，即使晶圆部分位于凹槽的侧壁上，晶圆也会因重力作用而滑入凹槽的底部，以使得对晶圆进行等离子体轰击时，提高了晶圆表面活化的均匀性，从而提高后续晶圆键合时的粘合力，降低相键合的晶圆发生脱落的概率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 限位 元件 以及 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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