[发明专利]一种CVD金刚石陷波滤波片装置在审
| 申请号： | 202010260749.5 | 申请日： | 2020-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN111399157A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 赵芬霞;刘宏明 | 申请（专利权）人： | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/00 | 分类号： | G02B7/00 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 邓凌云 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学技术领域，且公开了一种CVD金刚石陷波滤波片装置，包括工作台，工作台的上端右侧固定连接有外壳，外壳上端为开通设置，且外壳的上端通过合页铰接有盖板，外壳的内部设有放置槽，放置槽的上端固定连接有金刚石单晶片，外壳的下内侧壁固定连接有横向设置的滑轨，滑轨的内部滑动连接有滑块，滑块的上端与放置槽的下端中部固定连接，滑轨的内部设有横向设置的第一螺纹杆。该CVD金刚石陷波滤波片装置，便于对金刚石单晶片、光学窗口和激光光源之间的距离进行调节，且便于对激光光源的高度进行调节，从而便于调节对金刚石单晶片的激光照射效果，便于提高金刚石单晶片的滤波效果，从而提高滤波片的耐受光功率密度，便于人们使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 金刚石 陷波 滤波 装置 | ||
【主权项】：
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