[发明专利]改善p型氮化镓欧姆的方法在审

专利信息
申请号: 202010262719.8 申请日: 2020-04-03
公开(公告)号: CN111446622A 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 梁锋;赵德刚;刘宗顺;朱建军;陈平;杨静 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/30 分类号: H01S5/30;H01S5/042
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴梦圆
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种改善p型氮化镓欧姆的方法,包括:步骤1:在衬底上生长低温氮化镓缓冲层;步骤2:在低温氮化镓缓冲层上生长高温非故意掺杂氮化镓层;步骤3:在高温非故意掺杂氮化镓层上生长中度掺镁p型氮化镓;步骤4:在中度掺镁p型氮化镓上生长重掺镁p型氮化镓。本公开通过调整重掺镁p型氮化镓的外延生长条件,控制该层中碳杂质浓度,可有效降低比接触电阻率,改善p型氮化镓的欧姆接触。
搜索关键词: 改善 氮化 欧姆 方法
【主权项】:
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