[发明专利]一种极化掺杂的SBD二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010263036.4 申请日: 2020-04-07
公开(公告)号: CN111509033B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 高博;刘新科 申请(专利权)人: 深圳第三代半导体研究院
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/872;H01L21/329
代理公司: 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 代理人: 彭随丽
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提出一种极化掺杂的SBD二极管及其制备方法,所述SBD二极管结构自下而上依次为GaN衬底、n型GaN层、n型GaN层、渐变掺杂的AlGaN结构、嵌入所述n型GaN层的高阻区、位于所述GaN衬底底部的阴极和位于顶部所述GaN层上的阳极,其中渐变掺杂的AlxGa1‑xN结构底层为n‑AlGaN层,顶层为n‑GaN层,Al组分自下而上逐渐减小,其中0≤x≤1;所述高阻区上表面与顶部所述n‑GaN层共面。用渐变掺杂方法对n型区域进行极性掺杂,采用氧化层终端结构提高SBD击穿电压的同时解决正向导通电压低和正向导通电流小的问题。
搜索关键词: 一种 极化 掺杂 sbd 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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